主要是控制好溫度和時(shí)間，關(guān)于封孔。防止出現(xiàn)過(guò)封孔。如果是常溫封孔，還要調(diào)整好鎳/氟含量及其比例，特別是氟離子含量不能太高。如果呈現(xiàn)了過(guò)封孔，可將鋁件浸入稀硝酸中退除粉霜。

    一是基材自身要達(dá)到鏡面，氧化鋁件的鏡面效果來(lái)源于兩個(gè)方面。二是氧化膜要高度清純透明。根據(jù)介紹，如果基材自身已經(jīng)做到鏡面。那么問(wèn)題就是出在氧化膜上。

    不是清澈透明的自然不在考慮之列。對(duì)硫酸氧化膜而言，草酸氧化膜和鉻酸氧化膜帶有顏色。影響透明度的因素主要有:氧化膜純度/氧化膜厚度/氧化膜孔隙率/封孔質(zhì)量。氧化膜中如果裹挾有過(guò)多的硅/錳/鐵/銅/鉻等雜質(zhì)離子(或原子)氧化膜的純度就低，透明度就會(huì)下降。氧化膜雖然是透光的但也會(huì)有一些光散射損失。氧化膜厚度增加時(shí)透明度也會(huì)下降。氧化膜的針孔是光散射的主要根源，孔隙率越高光散射就越多。特別是針孔呈顯著的喇叭形時(shí)，光散射會(huì)急劇增加，透明度就會(huì)迅速下降。封孔物質(zhì)是勃姆石，常溫封孔時(shí)還有氫氧化鎳和氟鋁酸鹽，都是透明的因此正常的封孔基本上不會(huì)降低氧化膜的透明度。但是如果發(fā)生過(guò)封孔，所形成的粉霜就全部成為光散射質(zhì)點(diǎn)，就會(huì)使氧化膜的透明度大幅降低。所以，改善氧化膜的透明度應(yīng)從提高氧化膜純度/控制氧化膜厚度/降低氧化膜孔隙率/保證封孔適度這四個(gè)方面入手。

    主要來(lái)源是氧化槽液。因此，氧化膜中的雜質(zhì)主要來(lái)源于鋁件本身。適當(dāng)降低鋁件中合金元素的含量，盡量降低鋁件的雜質(zhì)含量，甚至選用高純鋁都能提高氧化膜純度。降低槽液中的雜離子，堅(jiān)持槽液新鮮也能提高氧化膜純度。氧化膜厚度以控制在10-12um為宜，如果產(chǎn)品規(guī)范不要求氧化膜厚度>=10um則好將氧化膜厚度控制在6-8um氧化膜的孔隙率主要取決于溶膜速度，溶膜越快則孔隙率越大。溶膜速度與硫酸濃度/槽液溫度/電流密度成正變關(guān)系，因此，適當(dāng)降低硫酸濃度/槽液穩(wěn)度/電流密度過(guò)都會(huì)降低氧化膜的孔率。